Sputtering mål

Høy renhet Chrome Sputtering Target

High Purity Chrome Sputtering Target Beskrivelse og bruksområde Krommetall er kjent for sin høye speilglans og korrosjonsbestandighet, og er et av de mest populære metallene i verden. High Purity

Legg til forespørsel
Chromium Cr Sputter-mål

Chromium Cr Sputter Target Beskrivelse Krom er et hardt og sprøtt stålgrå overgangsmetall som er høyt verdsatt for sin høye korrosjonsmotstand og hardhet. Chromium Cr Sputtering Targets er ofte

Legg til forespørsel
Høyrent molybden roterende mål

Høy renhet Molybden Rotary Target Molybden Rotary Target kommer i mange former, renheter, størrelser og priser. Roterende molybdenmål er en serie bearbeidede produkter av høyrent molybdenmateriale,

Legg til forespørsel
Høy renhet Mo Sputter Target

High Purity Mo Sputter Target Selskapet produserer høyrent metallboks High Purity Mo Sputter Target med uavhengige immaterielle rettigheter, som har blitt brukt i magnetronforstøvningsbelegg i

Legg til forespørsel
Mo Sputtering Targets

Mo Sputtering Targets Model gjør det ikke. :Mo Sputtering Targets Standard: ASTM, GB Overflate: Polert, Cynomolgus Påføring: Overflatebelegg Renhet: 99,95 prosent minimum Densitet: 10,2 g/cm3

Legg til forespørsel
Molybden-sprutmål

Molybden Sputtering Target Beskrivelse Molybden Sputtering Target er et svært miljøvennlig sputtering materiale. Renheten er generelt over 99,95 prosent. Den har høy styrke, god elektrisk og termisk

Legg til forespørsel
Molybden rundt mål

Molybden Round Target Beskrivelse og bruksområde Molybden Round Target er hovedsakelig sammensatt av målemne, bakplate og andre deler. De to krever forskjellige sveiseprosesser for sammenføyning.

Legg til forespørsel
Kobbersprutmål

Kobberforstøvningsmål Beskrivelse og bruk Sputtermål er en spesiell klasse materialer som hovedsakelig brukes i tynnfilmbeleggings- og vakuumbeleggingsindustrien. Copper Sputtering Target er et

Legg til forespørsel
Tungsten Round Target

Tungsten Round Target Funksjon og bruk Tungsten Round Target er et typisk produkt av wolframprodukter i elektronikkindustrien. Den er hovedsakelig laget av høyrent wolframmateriale etter kald

Legg til forespørsel
Tungsten Round Sputtering Target

Tungsten Round Sputtering Target Beskrivelse og anvendelse Målet er et av de uunnværlige materialene for magnetron sputtering-teknologi, og ytelsen til målet bestemmer mer eller mindre ytelsen og

Legg til forespørsel
Krom Sputter Coater Mål

Chromium Sputter Coater Target Beskrivelse Chromium Sputter Coater Target har de samme egenskapene som metallisk krom, hovedsakelig høy styrke, høy hardhet, høy oksidasjonsmotstand og

Legg til forespørsel
Chromium Cr Sputtering Mål

Chromium Cr Sputtering Targets Beskrivelse og bruk Krommetall er sølv, blankt, svært speilpolert og veldig hardt, og brukes hovedsakelig til å lage legeringer. Chromium Cr Sputtering Targets

Legg til forespørsel

Vi er kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av sputtermål i Kina. Hvis du skal kjøpe sputtermål av høy kvalitet med konkurransedyktig pris, velkommen til å få tilbud fra fabrikken vår. Også tilpasset service er tilgjengelig.

(0/10)