Sputtering mål

Sputteringsmål for aluminiumskromlegering

Aluminium kromlegering sputtering Target Egenskaper og bruksområde Aluminium kromlegering sputtering Target tåler lett ekstremt høy temperatur, høyt trykk og forskjellige korrosjon ekstreme forhold,

Legg til forespørsel
Aluminium krom sputtering mål

Aluminium Krom sputtering Målbeskrivelse Aluminium, et av de vanligste metallene i verden, er lett, formbart og ikke-magnetisk. Krom er et sølvhvitt metall med utmerket korrosjonsbestandighet. Den

Legg til forespørsel
Zirkonium titan sputtermål

Zirkonium Titanium Sputter Targets Beskrivelse Zirkonium er et skinnende off-white sterkt overgangsmetall som kan brukes som et legeringselement, og det resulterende legeringsmaterialet har mer

Legg til forespørsel
Zirkonium Titanium Sputtering Target

Zirkonium Titanium Sputtering Målbeskrivelse Zirkonium er et hardt, skinnende, sølvfarget metallmateriale, og titan er det mest brukte militære eller sivile industrielle metallmaterialet. Zirconium

Legg til forespørsel
Titanium Zirkonium Alloy Sputtering Target

Titanium Zirconium Alloy Sputtering Target Beskrivelse Sputtering target-prosessen garanterer utmerket korrosjonsbestandighet selv under svært tøffe miljøforhold som korrosive damper og fuktighet, og

Legg til forespørsel
99,9 prosent titansprutmål

99,9 prosent Titanium Sputtering Mål Beskrivelse Titanium er et vanlig materiale som kan finnes i en rekke produkter, inkludert klokker, bor, bærbare datamaskiner og sykler, blant andre. Dens sterke,

Legg til forespørsel
Titanium silisiumlegering sputtering mål

Titanium Silisium Alloy Sputtering Target Beskrivelse Sputtering target er en viktig del av drift av magnetron sputtering teknologi, som kan deles inn i tre typer: metall, legering og keramikk. Blant

Legg til forespørsel
Titanium silisium sputtermål

Titanium Silicon Sputter Targets Beskrivelse Magnetron sputtering coating er en ny type fysisk dampbeleggmetode, som bruker et elektronkanonsystem for å sende ut og fokusere elektroner på materialet

Legg til forespørsel
Titanium Silisium Planar Sputtering Targets

Titanium Silisium Planar Sputtering Mål Beskrivelse Titanium silicid er en uorganisk forbindelse som vanligvis produseres ved å bruke silicidteknikker på silisium- og polysilisiumlinjer for å

Legg til forespørsel
Krom Titanium Sputtering Target

Krom Titanium Sputtering Target Beskrivelse Målet er målmaterialet bombardert av høyhastighets energiske partikler. Når lasere med forskjellige effekttettheter, forskjellige utgangsbølgeformer og

Legg til forespørsel
Titanium kromlegering sputtering mål

Titanium Kromlegering Sputtering Målbeskrivelse Som et hardt materialebelegg med meget god ytelse, kan titan-aluminiumslegeringsmateriale beskytte komponenter mot høyintensiv slitasje i størst grad

Legg til forespørsel
Pure Titanium Sputtering Target

Rene titan sputtering målfunksjoner: Sammenlignet med andre mål, er metallmål i høyere markedsetterspørsel enn keramiske mål, ytelsen deres er høyere og levetiden er lengre. For sputtermålet, jo

Legg til forespørsel

Vi er kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av sputtermål i Kina. Hvis du skal kjøpe sputtermål av høy kvalitet med konkurransedyktig pris, velkommen til å få tilbud fra fabrikken vår. Også tilpasset service er tilgjengelig.

(0/10)