Mo Sputtering Targets

Mo Sputtering Targets Model gjør det ikke. :Mo Sputtering Targets Standard: ASTM, GB Overflate: Polert, Cynomolgus Påføring: Overflatebelegg Renhet: 99,95 prosent minimum Densitet: 10,2 g/cm3 Påføring: vakuumbelegg, halvleder Spesifikasjon: ISO9001: 2015 Vårt mål er å påføre halvledere,. .

Sende bookingforespørsel

Mo Sputtering Targets

Modellen gjør det ikke. :Mo Sputtering Targets

Standard: ASTM, GB

Overflate: Polert, Cynomolgus

Påføring: Overflatebelegg

Renhet: minimum 99,95 prosent

Tetthet: 10,2 g/cm3

Bruksområde: vakuumbelegg, halvleder

Spesifikasjon: ISO9001: 2015

Mo Sputtering Targets Spesifikasjon

Produktnavn	Mo1 Molybden Målmolybdenpriser
Materiale	Molybden råmateriale
Farge	Opprinnelig
Renhet	Mo>99,95 prosent
Spesifikasjoner	Dia.({{0}}mm) x tykkelse(0.1-100)mm ;tilpasse til kundenes tegning
Overflatebehandling	Polering, rullende
applikasjon	For produksjon av LCD, berøringsskjerm, solcelle, etc

Mo Sputtering Targets Bilde:

PVD Sputtering Targets (3)

PVD Sputtering Targets (4)

Målet vårt er å bruke til halvledere, optikk, flytende krystallskjermer, integrerte kretser, avanserte industrier, vakuumbelegg, solenergi, grønn energi og bilglass.

Populære tags: mo sputtering mål, leverandører, produsenter, fabrikk, tilpasset, engros, pris, tilbud, til salgs