Sputtering mål

Zirkonium roterende sputtering mål

Zirkonium Rotary Sputtering Targets Beskrivelse Zirconium Rotary Sputtering Targets er laget av høyrent zirkoniummateriale etter en serie behandling, med en spesifikk høyrent

Legg til forespørsel
Zirkonium 702 Planar Target

Zirconium 702 Planar Target Beskrivelse Zirkonium er et metallisk element med utmerket korrosjonsbestandighet, høyt smeltepunkt og gode mekaniske egenskaper, noe som gjør det nyttig i en rekke

Legg til forespørsel
Zirkonium 702 rundt mål

Zirconium 702 Round Target Beskrivelse Zirkonium er et skinnende grå-hvitt sterkt overgangsmetall som er mye brukt i kjernefysisk industri og romfart. Zirconium 702 Round Target er ofte laget av

Legg til forespørsel
99,95 % zirkonium-sputtermål

99,95% Zirconium Sputter Targets Beskrivelse Magnetron sputtering er en ny fysisk dampbeleggingsmetode, som bruker elektronkanonsystem for å avgi elektroner og fokusere på materialet som skal

Legg til forespørsel
Titanmål med høy renhet

Titaniummål med høy renhet Beskrivelse Titan er et paramagnetisk ildfast metall med sterk seighet og høy styrke, spesielt i et oksygenfritt miljø. For mål, jo høyere den kjemiske renheten til

Legg til forespørsel
Høyrent kromsputtermål

High Purity Chromium Sputter Target Beskrivelse Krom er et stålgrå, skinnende, hardt og sprøtt overgangsmetall. High Purity Chromium Sputter Target produseres vanligvis ved hjelp av vakuumsmelting

Legg til forespørsel
99,5 % borforstøvningsmål

99,5 % borforstøvningsmål Beskrivelse Beleggingsmålet er en forstøvningskilde som danner forskjellige funksjonelle filmer på underlaget ved sputtering under passende prosessforhold gjennom

Legg til forespørsel
Molybden (Mo) sprutmål

Molybden (Mo) sputteringsmål Beskrivelse Som en banebrytende teknologi for fremstilling av tynnfilmmateriale har sputtering to egenskaper: høy hastighet og ultralav temperatur. Molybden (Mo)

Legg til forespørsel
Titanmetallmål

Titanium Metal Target Beskrivelse Titanium Metal Target produseres hovedsakelig ved hjelp av elektronstrålekjøling smeltemetoden. Den har høy renhet, høy spesifikk styrke, god seighet i et

Legg til forespørsel
Nikkelmetallforstøvningsmål

Nikkelmetallforstøvningsmål Beskrivelse I industrien er nikkel ofte brukt i legeringsfremstilling, batteriproduksjon og som katalysator. Spesielt innen målmaterialer er nikkel mye brukt på grunn av

Legg til forespørsel
Sputtermål for krommetall

Krommetallsputtermål Beskrivelse Krom har et høyt smeltepunkt og god oksidasjonsmotstand, noe som gjør at krommålet forblir stabilt i miljøer med høy temperatur. I tillegg gir

Legg til forespørsel
TiAl Titanium Alloy Sputtering Target

TiAl Titanium Alloy Sputtering Mål Beskrivelse Sputtering target refererer til råmaterialet som brukes i sputtering avsetningsprosessen. Det refererer til prosessen der atomer kastes ut fra det faste

Legg til forespørsel

Vi er kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av sputtermål i Kina. Hvis du skal kjøpe sputtermål av høy kvalitet med konkurransedyktig pris, velkommen til å få tilbud fra fabrikken vår. Også tilpasset service er tilgjengelig.

(0/10)