Sputtering mål

Tungsten sirkulære sputtering mål

Tungsten Circular Sputtering Targets Beskrivelse Tungsten, som et ofte brukt målmateriale, spiller en nøkkelrolle i røntgenrør. Katodens driftstemperatur er ca. 2000K. De utsendte elektronene

Legg til forespørsel
Tungsten runde mål med høy renhet

Round Tungsten Targets med høy renhet Beskrivelse High Purity Tungsten Round Targets er de mest brukte målmaterialene sammenlignet med berylliumvinduer. De har høye atomkoeffisienter, høye

Legg til forespørsel
PVD 4N nikkelsprutmål

PVD 4N Nickel Sputtering Target Beskrivelse PVD 4N Nickel Sputtering Target er et mål laget av høyrent nikkelmateriale for PVD-teknologi, som muliggjør oppnåelse av tynne filmer med utmerket

Legg til forespørsel
Titanium aluminium runde mål

Titanium aluminium runde mål Beskrivelse Titan aluminium runde mål er ofte brukte metallmål for vakuumbelegg. Ulike egenskaper kan oppnås ved å blande innholdet av titan og aluminium. De er svært

Legg til forespørsel
Bormål med høy renhet

High Purity Boron Targets Egenskaper og bruksområde Beleggsmålet er en forstøvningskilde som danner forskjellige funksjonelle filmer på underlaget ved magnetronforstøvning, flerbue-ionplettering

Legg til forespørsel
99,99% nikkelrundsmål

99,99% nikkelrundsmål Beskrivelse Sputtering -mål refererer til råstoffet som brukes i sputringsavsetningsprosessen. Det refererer til prosessen der atomer blir kastet ut fra det faste målet på grunn

Legg til forespørsel
Mål for rent nikkelmetall

Rent nikkelmetall Målbeskrivelse Nikkel er et sølvhvitt metall med magnetiske egenskaper og god plastisitet, hovedsakelig brukt i legeringer (som nikkelstål og nikkelsølv) og som

Legg til forespørsel
Nikkel Ni-sprutmål

Nikkel Ni Sputtering Target Egenskaper og bruksområder Nikkel er et sølvhvitt metallisk element med god duktilitet, seighet og høyt smeltepunkt. I industrien er nikkel ofte brukt i

Legg til forespørsel
99,99 % nikkelsprutmål

99,99 % nikkelforstøvningsmål Beskrivelse Målmaterialet er materialet som brukes som kilde til sputtering eller fordampning i prosessen med fysisk dampavsetning (PVD) eller kjemisk dampavsetning

Legg til forespørsel
Høy renhet 4N nikkel sprutmål

High Purity 4N Nikkel Sputter Target Beskrivelse High Purity 4N Nickel Sputter Target er laget av høyrent nikkelmateriale etter pulvermetallurgi og smipolering. Den kan fremstilles ved sputtering,

Legg til forespørsel
Krom roterende sputtermål

Krom roterende sputtermål Beskrivelse Krom har god oksidasjonsmotstand og korrosjonsmotstand, og kan danne en stabil oksidfilm i det naturlige miljøet for å beskytte metallet mot ytterligere

Legg til forespørsel
Zirkonium 702 Rund Sputtering Target

Zirkonium 702 Round Sputtering Mål Beskrivelse Tynnfilmavsetning (belegg) er prosessen med å danne og avsette tynne filmbelegg på substratmaterialer som kan brukes til å endre eller forbedre visse

Legg til forespørsel

Vi er kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av sputtermål i Kina. Hvis du skal kjøpe sputtermål av høy kvalitet med konkurransedyktig pris, velkommen til å få tilbud fra fabrikken vår. Også tilpasset service er tilgjengelig.

(0/10)