Sputtering-målet refererer til råmaterialet som brukes i sputter-avsetningsprosessen, som refererer til prosessen med å kaste ut atomer fra det faste målet på grunn av bombardementet av målet med høyenergipartikler, og dens hovedfunksjon er å avsette en tynn film på arbeidsstykket. I slutten av februar leverte vi høykvalitets Titanium Aluminium Sputtering Targets produsert av oss til våre tyske kunder trygt og raskt med internasjonal ekspress. Tyske kunder har alltid vært fornøyd med metallproduktene vi leverer og er villige til å kommunisere med oss på et teknisk nivå. Pris- og størrelsesspesifikasjonene til produktene oppfyller også deres krav. Titanium Aluminium Sputtering Targets kan leveres med kobbersubstrater eller bearbeides til andre metallsubstrater om nødvendig.
Titanium Aluminium Alloy Sputtering Target er et veldig vanlig mål, som kan produseres ved støpemetode og varm isostatisk pressemetode. Den har høy kvalitet, høy renhet, jevn struktur, lang levetid, god korrosjonsmotstand, høy varmeledningsevne og konkurransedyktig pris og andre fordeler. Titanium aluminium sputtering Targets er mest brukt i dekorative belegg. De kan avsette filmer med god hardhet, høy lysstyrke, korrosjonsbestandighet, oksidasjonsmotstand og falmingsbestandighet. De er mye brukt i maskinvareverktøybelegg, dekorative belegg og flatskjermbelegg. lag, PVD- og CVD-behandling, halvlederkomponenter, og ulike magnetronforstøvningsmaskiner og ionpletteringsmaskiner. FANMETL kan også tilbyAluminium silisiumlegering sputtering mål, Nikkelsprutmålog Chromium Sputtering Target og andre metallsputtering-målprodukter.
