Sputtering Target er en spesiell type materiale, hovedsakelig brukt i filmbelegg- og vakuumbeleggindustrien. Vårt firma har et godt samarbeidsforhold med Singapore-kunder på metallmål. Singapore-kunden, som tidligere hadde snakket godt om metallarbeidet vårt, bestilte et parti med Copper Sputtering Target fra oss. Vi har kommunisert med kunden i noen tid om produktstørrelse, bestillingsmengde, pris og leveringstid.
Vi arrangerte produksjon direkte etter å ha bekreftet mottak av betalingen. Vi bruker kobbermetall av høy renhet i materialvalget, og gjennom høytemperatursintring, smelting, valsing, smiing, varmebehandling og maskinering lages produksjonsprosesser. Kobber (Cu) sputtering Targets er egnet for DC bipolar sputtering, trippel sputtering, quadrupol sputtering, ionestråle sputtering eller magnetron sputtering prosessering, med høy renhet, utmerket elektrisk og termisk ledningsevne, høy temperaturmotstand, høy produksjonseffektivitet og lang levetid. Kobbermål med høy renhet brukes også ofte som bakplanmaterialer for andre mål, ikke bare for å redusere driftstemperaturen og motstandstapet til målet, men også for å forbedre den elektromagnetiske feltfordelingen til målet, noe som resulterer i mer jevn sputtering og utvidet levetid.
Etter at produksjonen er fullført, vil vi definitivt utføre kvalitetskontroll og inspeksjon, og deretter pakke og sende. Vi har levert produktet til kundens angitte mottakssted i Singapore innen leveringsperioden i god stand. Kunden er veldig fornøyd med vår produktkvalitet og serviceinnstilling, og sa at hvis det er behov for å kontakte oss igjen.
